EN CE MOMENT

LE DESSIN ENGAGÉ
– UN REGARD SUR LA SOCIÉTÉ –

Après des expositions remarquées telles que Art et Identité sur le Tatouage en septembre 2019, ou encore celle consacrée aux œuvres de l’artiste Sophie Del Mambo, l’Office Culturel d’Animation de Cenon (OCAC) organise en ce début d’année 2021 une exposition sur le thème du dessin engagé.

Historiquement, le dessin dit « engagé » a toujours correspondu à des périodes de crises sociales et politiques. Artistes, et parfois même journalistes, ces auteurs de talent s’expriment à travers des œuvres pour dénoncer, délivrer un message, faire réagir, et faire rire.

C’est après plusieurs discussions, dont une avec Lucie Braud, qui travaille pour l’association Un Autre Monde, que l’exposition sur le dessin engagé s’est concrétisée. Aujourd’hui plus que jamais, avec les problèmes sanitaires qui se posent dans le monde, la culture se doit d’être, en plus d’un besoin, un véritable loisir. Une opportunité d’apprendre tout en s’amusant et découvrant.

C’est en ce sens que du 22 février au 7 mai prochains, le Centre Culturel propose un parcours inédit dans lequel il est possible de découvrir une dizaine d’artistes de la région à travers plusieurs de leurs œuvres issues de disciplines différentes, abordant des sujets différents.

L’exposition est visible au sein du château pour les professionnels, mais sera également visible pour tous sur le site internet de l’Ocac grâce à la mise en place d’une visite virtuelle en 360 disponible à partir du 22 mars prochain.

On retrouve les travaux de Cami, Jean-Luc Coudray, BAST, David Selor, Möka, Visant, Lüle, Novanima, Marion Duclos et des étudiants de Bordeaux Montaigne. Du dessin de presse, en passant par la BD, le dessin animé, ou encore le graffiti, tous proposent un reflet de la vision qu’ils peuvent avoir sur l’actualité.

Un grand merci aux partenaires de l’exposition : La ville de Cenon, la DRAC Nouvelle Aquitaine , la Nouvelle Aquitaine, le Théâtre Furieux, Unisphères et Passage à l’Art.

Visiter l’exposition en ligne : ICI

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